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JMP-2是一款集研磨与抛光功能于一体的双盘单控金相试样磨抛机。它将金相制样中最关键的预磨、研磨和抛光工序高效整合于一体,实现从粗磨到精抛的连贯操作。本机设计科学,操作便捷,性能稳定可靠,是现代化金相实验室提升制样效率、保障试样质量的理想核心设备。本机带有冷却装置,可以在预磨时对试样进行冷却,以防止因试样过热而破坏金相组织,该机左盘为研磨盘,右盘为抛光盘,可两人同时操作使用,使用方便、稳定可靠。
核心特点:
研磨抛光一体设计:独特配置左盘(Φ230mm研磨盘,450转/分)与右盘(Φ203mm抛光盘,600转/分),无缝衔接研磨与抛光工序,一台设备即可完成全流程制样,节省空间与设备投入。
双人同时高效作业:支持两名操作人员并行使用,一人进行试样研磨,另一人可同步进行抛光,显著提升实验室整体工作效率与设备利用率。
专业冷却保护系统:内置冷却装置,能在研磨过程中有效冷却试样,杜绝因摩擦过热导致的金相组织改变,确保显微分析结果的真实性与准确性。
强劲动力与稳定运行:搭载370W强劲电机,为双盘提供独立、稳定的动力输出,确保在不同转速下均能平稳运行,满足各种硬度材料的制样需求。坚固的机身结构(重42kg)保证设备长期可靠耐用。
技术规格:
型号:JMP-2
工作电压:220V / 50Hz
研磨盘:直径Φ230mm,转速450转/分
抛光盘:直径Φ203mm,转速600转/分
输入功率:370W
外形尺寸:710×680×330mm
重量:42kg
JMP-2双盘单控磨抛机以其高度集成、高效协同的设计理念,重新定义了金相试样制备的工作流程,是追求流程优化、结果精准与高效率的工厂实验室、科研院所及高校的优秀选择。
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